断口产物电子显微镜分析成分的确定及产物相结构

断口产物电子显微镜分析成分的确定及产物相结构

制备好的保护试样按一般金相试样进行操作：粗磨、细
磨、抛光、浸蚀、最后进行观察。在整个过程中要注意二点：
    1．在研究断裂的变形情况时，需进行电解抛光，以免由于机械抛光带来的试样变形。
    2．裂纹的浸蚀要适度，选择适当的浸蚀剂，特别是需要分析裂纹中的产物时，则建议不要浸蚀先进行观察和分析，最后进行开裂途径与组织关系的分析。
    在研究断裂与组织的关系中，还可以直接浸蚀断口，把所显示的组织与断口中的断裂层次相对应，但必须十分小心，否则将使原断口破坏。浸蚀后的断口除供宏观拍摄外，还可直接进行扫描电子显微镜观察，或进行二级复型，制备透射式电子显微镜样品。
因为断口的浸蚀只能进行一次。因此，选择浸蚀试剂是相当重要的。最好是用同一类试样(从断裂构件上取下的试样)，先进行试验，观察，当效果好时再用于断口试样的正式浸蚀。对于重大的断裂事故，一般是不允许破坏断口，“消灭罪证”的，不得已才这样做，但必须留下断口的另一半。
断口上产物情况是很复杂的，如有的很疏松、有的极薄、有的易挥发、有的还容易水解等。加上断口粗糙不平，给断口产物分析带来极大的麻烦。    断口产物的分析可分两大类：成分的确定及产物相结构的确定，前者通常应用化学分析、光谱、带有能谱的扫描电子显微镜、电子探针、离子探针、俄歇能谱仪等，而产物相结构的分析则常应用x光衍射仪、德拜粉末相机X光衍射、透射式电子显微镜选区衍射、高分辨率衍射等。