金相机械抛光,粗抛粒度可用5-7μm精抛用1-0.5μm

金相机械抛光,粗抛粒度可用5-7μm精抛用1-05μm
试样粗磨与细磨
  经砂轮打平后的试样，可用下面五种方法之一来进行研磨。  （1）利用不同粒度的水砂纸，在平板玻璃上用手工磨制。  （2）利用不同粒度的水砂纸，分别放在预磨机转盘上磨制。  （3）直接使用不同粒度的磨粉，在抛光机上研磨。  （4）利用蜡盘粗磨后，再用粗粒度氧化铝粉，悬浮浇在呢绒盘上研磨，这个方法基本上可能代替全部金相砂纸。  （5）如岩相制片一样，用中等粒度的磨料在铸铁盘上研磨。
抛光  金相试样的抛光，可用如下方法来实现。

机械抛光  机械抛光，可以是一级抛光，也可以分两级抛光，在两级抛光的情况下，粗抛粒度可用5-7μm，精抛用1-05μm。  抛光操作，目前仍多用为手持单试样的抛光机上进行。  为了减少手工劳动，提高抛光效率，现正在向自动化方向发展，目前广泛使用的有振动抛光机和自动抛光机两种。  涂层材料的选择，决定于被涂材料的光学性质，应以满足其一个相的反射率降低为零时的相位和振幅为条件，一般说来，高反射被涂层材料要求高反射率的涂层，对低反射和强吸收性物质来说，可以应用低反射率的涂层材料。