光学显微镜的放大倍数的上限约为1200倍

光学显微镜的放大倍数的上限约为1200倍
电子显微镜的一般介绍    光学显微镜的放大倍数的上限约为1200倍，在这样大的放：廷倍数下，景深非常小．由于这二个限制，再加上大多数微电路中，扩散和金属化区域等等之间的距离可以与光学显微镜所用的光2芝波长相比拟这一事实，就导致了电子显微镜的日益普及．这些仪器是用被几十千伏的电压加速了的电子束产生图象和分辨更小辔，体的．电子的波长比光波波长短得多(分辨力增加的原因)，它近似地由下式给出式中，V是电子的加速电压．电子显微镜有两种基本的类型：一种是透射电子显微镜(TEM)，它类似于光学显微镜；另一种是扫描电子显微镜(SEM)，它可以对样品表面进行扫描．透射电子显微镜可以有很高的分辨率(3—5埃左右)，而扫描电子显微镜的分辨率只有100N200埃．可是，透射电子显微镜只能使用薄得足以使电子束能明显穿透过的试样．所允许的实际厚度与材料及所用的加速电压有关，但一般小于2000埃．因此，微电子学中所用的大多数薄膜，即使它们不是附在较厚的基片上，对用透射电子显微镜观察而言也是太厚了．为此，块状的材料或较厚的薄膜必须减薄，或者，假如只是对表面结构有兴趣，则可以用足够薄的膜来制作复型．    扫描电子显微镜是根据一些不同的现象来构成衬度的，所有的测量都能在一个表面上进行．对于基本的材料研究，诸如寻找沉淀物以及研究晶粒结构和位错，透射电子显微镜是最适合的．对于器件工艺的控制和失效分析，则扫描电子显微镜更为有用，它可用作为光学显微镜的扩展，或用来检测任何其它方法都不易辨别的缺陷扫描电子显微镜的应用  扫描电子显微镜的最大应用在于可用高的放大倍数和很大的景深来检测结构和器件．其中包括一张从硅衬底上生长出来的某些硅晶须的照片，它是用任何其它办法都无法得到的．对氧化物台阶上的集成电路金属覆盖物已作了广泛的研究