显微镜测量有机质发射荧光在可见光范围内400-700nm

测量有机质发射荧光在可见光范围内400-700nm
荧光光谱测量
  测量方法  测量有机质发射荧光在可见光范围内（400-700nm）光谱相对强度分布的方法，称为荧光光谱测量，由于光谱测量能揭示有机质荧光在整个可见光范围内的分布和变化特征，具有灵敏度高和分析参数多的优点，并可直接地反映物
质的内部组成和结构，因此，在有机质荧光性研究中，光谱测量是最常使用的方法。
  光谱测量方法是在工作基础上发展起来的，荧光光谱测量的影响因素较多，到目前为止尚末能像荧光强度那样制定一套相对规范的国际标准。
  对荧光光谱的测量方法做了准确详细地描述，之后，各国煤岩学家大都沿用了这一套方法，随着研究的深入，人们对测量方法做了部分修改和调整，但其基本要点是一致的。
  1.用反射光荧光显微技术，激发光源为100W高压汞灯。
  2.用长波紫外光（大约365nm）作为激发光，即使用UGL+BG38激发滤光片组合。
  3.垂直照明系统使用双光束分光器（临界值为420-430nm).
  4.阻挡滤光片透光下限为430nm。

  到目前为止，国内外发表的文章中的光谱数据，都是在
上述条件下测得的。这一方法优点在于：