干刻蚀技术改善玻璃表面清洁度分析显微镜

干刻蚀技术改善玻璃表面清洁度分析显微镜
   湿法腐蚀和干法刻蚀的关系    早期的千法刻蚀技术不够稳定，而且刻蚀均匀性差，重复性也差，所以湿法腐蚀得到了广范的应用。但是近年来湿法腐蚀的同有的缺点越来越突出，再加上干刻蚀技术的不断提高和完善，使干法刻蚀技术越来越受到人们的青睐。生产中湿法腐蚀的主要问题是腐蚀液对净化室区域的腐蚀和对人类健康的影响。毒气的处理、废液的排放、腐蚀用的丁夹具及设备一化学试剂等都提高了湿法腐蚀的成本。同时还要受到攻府安全部门和环境污染保护部门的干涉。根据这些原因，使人们的注意力逐渐转向干法刻蚀技术。等离予刻蚀技术不仅工艺简单，而且刻蚀分辨率高，无钻蚀现象，对生产环境的影响也较小。另外，干法刻蚀还可以用来作为掩膜版玻璃的预处理，提高和改善玻璃表面的清洁度，增加涂敷层与玻璃的结合力．
    等离子体刻蚀设备的改进和技术的改善提高了刻蚀的均匀性，特别在正性抗蚀剂工艺中对分辨率的提高更为明显。干法等离子体刻蚀的主要优点包括；1．刻蚀后去胶方便，2．可省略后烘工艺，3．分辨率增加，边缘陡直；4．均匀性在-I-l～2％之间；5．提高了器件的电气均匀性(阈值电压)，6．刻蚀和去胶可同时进行，7．与湿法腐蚀比较，有利于生态环境保护和生产安全。    千法刻蚀最主要的优点是提高了刻蚀分辨率。对小予1“m的线条，用湿法刻蚀方法极其困难，而对干法刻蚀来说却极为方便。过去有许多技术问题限制于千法刻蚀技术的应用，然而近年来经过人们的不断研究，已经克服了干刻技术静缺点，充分显示了干法刻蚀技术的优越性。与湿法刻蚀比较；干法刻蚀相对来说比较安全。当然，于溶刻蚀过程中也会排出一些有害气体